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HIPIMS和HIPIMS+
物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由電弧蒸發或磁控溅射沉积

運用HIPIMS和HIPIMS+技術制備出致密、無缺陷的塗層

       物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由電弧蒸發或磁控溅射沉积,高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)是PVD硬质涂层的第三种方法(电弧离子镀和磁控溅射为前两种方法),HIPIMS技术证明,高电离的优势 (如電弧蒸發)和磁控溅射的优势相结合是可行的,其结果是制备出良好附着力以及致密、光滑的涂层。 

       HIPIMS技术非常适用于蚀刻,由于长达8兆瓦的峰值功率,HIPIMS溅射的原子将进入到基板给予致密,并且具有强大的黏结性柱状层,运用HIPIMS技术涂层也是可行的,但是其沉积率低于目前的濺射技術。

       汇成真空已研制出一种可替代的HIPIMS技术,即HIPIMS+技术,此技术非常适用于涂层, HIPIMS+具有较高的沉积速率,可比電弧蒸發,这使得HIPIMS+技術可廣範應用于工業領域。HIPIMS+另一個優點是能更好的利用靶材,並在保持高硬度的同時擁有可調諧的應力,一些HIPIMS+塗層適用于低溫塗層,許多不同的物理氣相沈積塗層可應用于HIPIMS+技术,如TiN, TiAlN, TiCN, CrN, Cr2N。

       HIPIMS+經測試表明適用于模具,模塊,銑刀片,螺紋車削刀片,銑刀和水龍頭,HIPIMS和HIPIMS+技术都能制备出致密,无缺陷的涂层,这两种技术都可以在汇成真空天堂亚洲的真空鍍膜設備上应用,当然也可以在汇成真空现有的PVD涂层设备上进行升级。