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磁控溅射鍍膜設備
  • 中频磁控鍍膜設備濺射技術已渐成为溅射镀膜的主流技术,它优于直流磁控溅射镀膜。
  • 集成了直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发技术,结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。 各种膜性能的改善,能大衣合金薄膜,复合膜,多层复合膜的金属表面上以及非金属。
  • 該設備應用于手提電腦、天堂亚洲殼、天堂亚洲、無線通訊、視聽電子、搖控器、導航和醫用工具等,PLC人機界面自動控制系統。
  • 该设备将磁控濺射技術和真空蒸发技术结合在同一鍍膜設備里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。