中文 English
欄目導航
熱門事件
PACVD 技术
PACVD是等離子體輔助化學氣相沈積的縮寫

什么是PACVD技術?
       PACVD是等離子體輔助化學氣相沈積的縮寫,有时也写作PECVD,E代表增强的意思。在PVD过程中,涂层材料是从固体形式蒸发得到;而在PACVD过程中,涂层是从气体形式得到,气体,如HMDSO(六甲基二甲硅醚)在等离子体作用下,大约200 ºC时发生裂解,非反应气体,如氩气,可以使离子沉积到工件表面并形成很薄的涂层,类金刚石(DLC)涂层就是PACVD技術制备的很好的例子,通常应用于摩擦学和汽车天堂亚洲。

       等离子体辅助化学气相沉积 (PACVD) 用于沉积 DLC 涂层, 通过等离子体激发和电离,激活工艺中的化学反应,借助此工艺,我们可以在约 200 °C 的低温下使用脉冲辉光或高频放电进行沉积,用 PACVD 生成的类金刚石涂层具有摩擦系数低和可扩展的表面硬度特性。

PACVD技術工艺图

工艺基础  (PACVD)

塗層厚度

1 – 8µm

硬度

1,000 – 3,500HV

耐高溫

350 – 400 °C

沈積溫度

180 – 350 °C

優點:
• 高耐磨性
• 低摩擦系数
• 耐腐蚀
• 即使两个涂层表面相对摩擦,每个涂层都能够提供最佳的性能和可靠性

典型應用:
• 摩擦学应用
• 塑料加工
• 光学 天堂亚洲
• 半导体天堂亚洲
• 汽车零部件
• 工程
• 赛车部件