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真空電源
  • 通过可变波形提高精确度,为双阴极系统设计的雙極性脈沖電源。
  • 激發能確保鍍膜質量優異的高密度等離子體,高功率脈沖磁控管濺射(HIPIMS)電源可助您獲得出色的鍍膜結果。
  • 每种磁控溅镀工艺都能得到偏壓電源支持:TruPlasma Bias 3000 / 4000 偏壓電源系列是用途广泛、先进的直流偏壓電源。无论对于在材料预处理、干刻和偏压膜层的沉积等应用,还是对于PVD技術中使用的各种靶材,TruPlasma Bias 3000/4000偏壓電源系列是您的最佳选择。
  • 利用真空電弧離子鍍獲得性能優異的硬質鍍膜,利用真空電弧離子鍍獲得性能優異的硬質鍍膜!
  • 用于微觀工藝的宏觀天堂亚洲,射頻電源系列可以使加工工藝具有極高的穩定性,因此常常被應用在微型元件的生産中。在其他電源方案無法有效實施的時候,該系列電源將助您成功。
  • 确保大面积和高溅镀率的专业天堂亚洲,中频电源系列众多优点集于一身:相对于直流电源系列,具有更高的稳定性;相对于高频电源系列,解决方案更为经济。对于高沉积率的大面积磁控溅镀工艺是理想的电源。在双磁控管的应用领域,中频电源是建筑玻璃设备和金属鍍膜設備中的核心组件。
  • 等離子體激發領域的傑作,等離子激發技術是最經濟的入門級技術。等離子體激發直流電源系列可以用于磁控濺鍍的單陰極系統、雙陰極系統,以及基材的磁化處理。